设备型号：PHI 5000 VERSAPROBE III
原产地/供应商：日本/ULVAC-PHI
主要用途
用于表面的元素成分、元素化学状态信息分析，广泛应用于分析无机化合物、合金、聚合物，能源电池，表征表面成分、表面缺陷（腐蚀、异物、污染、分布不均等）、表面多层薄膜等。
项目介绍
设备参数/指标
l X射线束斑直径：10-200 μm
l 定性定量分析：
表层（<10nm）元素组成及价态
l 探出限：＞0.1 at%
l 微区精确定位：10 ~ 1400 μm
l 能量分辨率：XPS：0.10 eV
UPS：110 meV
IPES：<0.45 eV
l 辅助装置：
Ar离子枪、GCIB 团簇枪、双束中和
冷热样品台、气体反应器、真空转移
功能配置
l 10 nm以内覆盖Li-U的全元素测试
l 精准的Ar离子刻蚀系统
l 配备双束中和枪，可进行导体、半导体及不导电样品的测试
l 可进行不同温度（-200~500℃）、不同气氛、真空转移等准原位测试
样品要求
结果展示
服务保障
- 我们承诺
服务质量第一时间反馈专人处理，保证及时解决问题
- 开具发票
所有产品均可开具发票请在下单时选择填写
- 平台保障
因过失行为导致用户直接损失,均可享受“平台责任保障”
- 安全保障
服务质量第一时间反馈专人处理，保证及时解决问题
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