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聚集离子-电子双束显微镜
聚集离子-电子双束显微镜
聚集离子-电子双束显微镜
用于金属、半导体等固体样品上制备微纳结构、精确定向制备高质量透射电镜样品等

设备型号:HELIOS G4 UX


原产地/供应商:美国/THERMO FISHER

主要用途

聚焦离子/电子双束电镜可用于金属、半导体等固体样品上制备微纳结构、精确定向制备高质量透射电镜样品等。结合附件可实现样品元素分布、相分布和晶粒取向等多种微观结构分析。


项目介绍

设备参数/指标

电子束和离子束最佳工作距离分辨率:

  ≤0.7 nm @ 1kV(非减速模式)

Ga离子束分辨率:≤2.5 nm @ 30 kV

EDS探测器能量分辨率:Mn 保证优于127 eV

元素分析范围:Be4Cf98

EBSD标定速率:在线标定速度高达400 /

纳米机械手最小步长:≤50 nm

样品台倾转角度:-10°~60°


功能配置

内置二次电子/背散射电子探测器

ICE 二次离子探测器 

/碳沉积气体

液态Ga离子源

EDS/EBSD

三维重构







样品要求


结果展示


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