设备型号:HELIOS G4 UX
原产地/供应商:美国/THERMO FISHER
聚焦离子/电子双束电镜可用于金属、半导体等固体样品上制备微纳结构、精确定向制备高质量透射电镜样品等。结合附件可实现样品元素分布、相分布和晶粒取向等多种微观结构分析。
设备参数/指标
l 电子束和离子束最佳工作距离分辨率:
≤0.7 nm @ 1kV(非减速模式)
l Ga离子束分辨率:≤2.5 nm @ 30 kV
l EDS探测器能量分辨率:Mn Kα保证优于127 eV
l 元素分析范围:Be4~Cf98
l EBSD标定速率:在线标定速度高达400 点/秒
l 纳米机械手最小步长:≤50 nm
l 样品台倾转角度:-10°~60°
功能配置
l 内置二次电子/背散射电子探测器
l ICE 二次离子探测器
l 铂/碳沉积气体
l 液态Ga离子源
l EDS/EBSD
l 三维重构
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适用于材料断口形貌和微观组织观察、微区成分定性和半定量分析等
具有独特的低真空、环境真空模式,广泛应用于测试各种材料
具有普通扫描电镜对材料表面微观形貌的观察
主要用于纳微米尺度下的切割、加工,透射样品制备等工作
可完成复杂的纳米操作
用于金属、半导体等固体样品上制备微纳结构、精确定向制备高质量透射电镜样品等
广泛应用于材料科学、纳米颗粒、生物医学、食品药品、纺织纤维、地质科学等领域
主要用于较大样品的微观尺度形貌观察,以及微区元素分析;配合拉伸台,可以进行原位观察