设备型号:AMBER GMU TOF-SIMS
原产地/供应商:捷克/TESCAN
超高分辨率电镜联用系统可完成复杂的纳米操作,搭载飞行时间二次离子质谱能完成从H开始的轻元素检出分析和微量元素分析工作,结合能谱仪和EBSD,可以完成微区成分及晶体结构取向分析。
设备参数/指标
l 离子束分辨率:2.5 nm @ 30 kV
l TOF -SIMS质谱分辨率:不低于800,质量数范围不小于1 - 2500
l 元素含量检出限:ppm量级
l 元素范围:从H开始的任意元素
l EBSD:在线标定速度高达4500 点/秒
功能配置
l 液态金属镓离子源
l 铂/碳沉积气体
l 集成TOF-SIMS系统
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适用于材料断口形貌和微观组织观察、微区成分定性和半定量分析等
具有独特的低真空、环境真空模式,广泛应用于测试各种材料
具有普通扫描电镜对材料表面微观形貌的观察
主要用于纳微米尺度下的切割、加工,透射样品制备等工作
可完成复杂的纳米操作
用于金属、半导体等固体样品上制备微纳结构、精确定向制备高质量透射电镜样品等
广泛应用于材料科学、纳米颗粒、生物医学、食品药品、纺织纤维、地质科学等领域
主要用于较大样品的微观尺度形貌观察,以及微区元素分析;配合拉伸台,可以进行原位观察